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MATRIX

Incisori italiani contemporanei

Nell’ambito della V Edizione della Biennale della Grafica – ICPNA 2016, l’Istituto Italiano di Cultura di Lima presenta l’esposizione: MATRIX. Incisori italiani contemporanei, a cura di Massimo Scaringella.

Nel mondo dell’arte ci si imbatte spesso in tecniche, come quella dell’incisione, che per la loro natura e specificità metodologica generano continui problemi di controllo e di superamento, sia nello schematismo meccanico sia nelle ovvie possibilità di impiego e rendimento dei colori. Il tutto nasce, nella maggioranza dei casi, da un controllo mentale rigoroso che varia a seconda della funzionalità ottica, intesa come suggestione primaria.
Una realtà che si impone con maggior forza se si considerano le tecniche moderne della grafica contemporanea, le quali trascurano sempre più i meccanismi manuali sulle matrici a favore dell’alternativa digitale.

È comunque richiesto, nel migliori dei casi, un controllo estetico ancor più rigoroso, oltre a una conoscenza delle nuove tecnologie in costante evoluzione. Si continua, in questo modo, la lunga tradizione che assegna alla “grafica” un ruolo di primo piano nella produzione artistica contemporanea, in tutti i suoi aspetti.

Queste le basi concettuali che si propone di evidenziare la mostra MATRIX – incisori italiani contemporanei, inserita nell’ambito della V edizione della Biennale della Grafica – ICPNA 2016 in cui i lavori di Gianfranco D’Alonzo, Roberto Pace, Paolo Parisi, Roberto Rizzoli e Paolo Scarfone offrono un’idea della nuova creatività nella produzione grafica.
Tutti gli artisti presenti, di fatto, si avvalgono abitualmente di queste tecniche, tanto che esse diventano, per molti di loro, uno strumento fondamentale per l’insegnamento presso le più prestigiose Accademie di Belle Arti in Italia.

La mostra sarà aperta al pubblico da lunedí a venerdì dalle 9.00 alle 13.00 e dalle 15.00 alle 21.00 e sabato dalle 9.00 alle 13.00

Entrata libera

  • Organizzato da: Istituto Italiano di Cultura di Lima
  • In collaborazione con: ICPNA